Cover Story

450mm論争
駆け引きの構図

Part1●変化を仕掛けるLSIメーカー
業界を二分する大論争，ビッグ3の共同宣言で激化
Part2●論争の構図
対立と条件交渉を使い分け，“落とし所”を探る
Part3●装置メーカーの戦略
不況下に追い打ち，生き残りを賭けて攻めに出る

Special Feature

“実現力”より“提案力”を競い新市場を探った
「FPD International 2008」

Emerging Technology

原生生物でアクチュエータを実現
液体中で数百μｍの伸縮が可能に

Key Word

『エネルギー・ハーベスティング』

Key Person

450mmの導入で22nmとの同時開発を支援

ベルギーIMEC　Gilbert Declerck 氏

Key Person

太陽電池の普及モデルを東京から世界へ

東京都環境局　小原 昌 氏

Interview

材料と装置の両輪で太陽電池分野を攻める

東京応化工業　種市 順昭 氏

Tutorial [Energy]

もっと知りたい太陽電池●第9回 多結晶Si材料

設備投資の少ない製造法，供給増加で需要逼迫の緩和へ

Watcher[International]

View Point

LSI

【Inside】ダブル・パターニングが22nmにも適用へ

FPD

MEMS

【Inside】急拡大する中国のMEMS産業，5年後に世界最大の生産拠点に

EDA

  • 【Ranking】ルネサスの研究開発指針/インドHCLの日本法人に聞く/アナログの微細化効果 ほか

New Products

  • ベベル・エッチング・チャンバ：大日本スクリーン製造
  • ハードマスク/Siエッチング装置：日立ハイテクノロジーズ
  • i線露光装置：キヤノン
  • ダイシング用純水リサイクル装置：ディスコ
  • 光学式ウエーハ検査装置：レーザーテック
  • 基板接合装置用位置合わせ装置：オーストリアEV Group社
  • Si貫通電極形成向け装置：東京応化工業
  • ガラス基板の位置センサー：SUNX

Event

  • 「第5回 世界半導体フォーラム」 2008年12月2日（火）