台湾TSMCは、10nm FinFETおよび7nm FinFETでの設計や生産の進捗状況について、53rd Design Automation Conference(2016年6月5日~10日)と同じ米国オースチンで開かれたイベント「Collaborating to Enable Design with the Latest Processors and FinFET Processes, including 7nm」(米Synopsys社と英ARM社、台湾TSMCが6月6日に共催)で語った。登壇したのは、前年と同じくWilly Chen氏(Deputy Director, Design & Technology Platform)である。
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