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HOMEエレクトロニクス電子デバイス > 【SPIE】Cymerが量産対応のEUV光源でバースト出力40W、デューティ比92%を達成

【SPIE】Cymerが量産対応のEUV光源でバースト出力40W、デューティ比92%を達成

  • 木村 雅秀=日経エレクトロニクス
  • 2013/02/28 20:33
  • 1/1ページ
 米Cymer社は、オランダASML社の量産向けEUV(extreme ultraviolet)露光装置「NXE:3300B」に搭載するLPP(laser produced Plasma)方式のEUV光源に関する最新データを「SPIE Advanced Lithography」のポスター・セッションで発表した(論文番号8679-89)。

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