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【SPIE】EUV露光技術の多世代利用に向けて、高NA化の議論が活発化

  • 木村 雅秀=日経エレクトロニクス
  • 2013/02/28 12:47
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 EUV(extreme ultraviolet)露光技術を多くの技術世代に渡って利用可能にするために欠かせない高NA(開口数)化に関する議論が「SPIE Advanced Lithography」で活発化している(講演番号8679-40、8679-41など)。

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