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【セミコン2012】アドバンテスト、10nm台の描画が可能なEB露光装置を開発

赤坂 麻実=Tech-On!
2012/11/15 16:11
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 アドバンテストは、10nm台の微細なパターンを描画できる電子ビーム(EB)露光装置「F7000」を開発した。

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