【EU PVSEC】三洋電機，薄膜Si型太陽電池に塗布プロセスを適用
2010/09/08 14:30
裏面部分に塗布プロセスを適用
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変換効率10.4％を達成
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三洋電機は，薄膜Si型太陽電池の製造工程の一部に塗布プロセスを適用した成果を初めて公開した。真空プロセスを減らせるため，製造コストの低減が期待できる。1.1m×1.4mの基板を用いた場合，安定化前の変換効率が10.4％になった結果も示した。
塗布プロセスで成膜したのは，裏面のITOとAg，シリカである。三菱マテリアルのナノインクを大日本スクリーンのライン・コーターで塗布した後に加熱して形成した。アモルファスSi膜や微結晶Si膜は従来通り真空プロセスを用いている。
塗布プロセスを組み合わせて1.1m×1.4mの基板上にタンデム構造の薄膜Si型太陽電池を形成した場合，安定化前の変換効率は10.4％を達成した。Iscは1.40A，Vocは160.7V，FFは71.2％である。
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