「eBeam Initiative」のメンバー企業である米D2S, Inc.とアドバンテストは共同で，EB（電子ビーム）直描によるLSI製造のスループットを従来比で1ケタ高められる手法を開発した。D2Sが手掛けるLSI設計環境「design for e-beam（DFEB）」をアドバンテストのEB直描装置と連携させることにより，描画時の部分一括露光（character projection：CP）の比率を高める。これにより，ショット数を削減する。今回の手法により，現状で0.1枚/時程度にとどまるEB直描のスループットを，「1枚/時以上に高める道が開ける」（米D2S, Inc.の日本法人であるD2S取締役会長の吉田憲司氏）という。
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