フルフィールドEUV露光装置の開発が進んでいる。デバイス・プロセス実証用の試作機（オランダASML社の「ADT（Alpha Demo Tool）」とニコンの「EUV1」）は，既にユーザー・サイト（ベルギーIMECと米College of Nanoscale Science and Engineering（CNSE）of the University at Albany，および半導体先端テクノロジーズ（Selete））に納入され，デバイス試作に使われている。今回，露光装置メーカー各社が，試作機の性能向上や量産用EUV露光装置の開発に関する成果を発表した。
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