半導体チップと太陽電池の材料メーカーである米Voltaix LLCは2008年7月29日，米Intel Corp.の投資部門であるIntel Capital社から1250万米ドルの資金提供を受けたと発表した（発表資料）。この投資によって，Voltaix社は薄膜太陽電池材料の生産能力を拡大する。

　Voltaix社は，フロントエンドICの製造プロセスで使用する電気化学材料やガスのほか，CVD法による薄膜太陽電池セル製造用の原料（CVD precursor）も製造している。

　同社のpresidentであるJohn P. de Neufville氏は，「当社は25年以上もの間，半導体と薄膜太陽電池向けに化学材料を提供してきた。薄膜太陽電池の製造は，特に建物に埋め込まれる太陽電池製品などにおいて生産拡大の体勢が整った，と我々は考えている。当社は今回の資金調達によって，薄膜太陽電池の需要に応えるための最新技術を用いた工場の建設が可能になる」とコメントを寄せている。

　Intel Capitalのpresident兼Intel社のexecutive vice presidentであるArvind Sodhani氏は，「材料の革新は，半導体製造の新たな可能性を生み出すために極めて重要だ。当社のVoltaix社への投資は，先端的なIC製造の分野や薄膜太陽電池のような補完的なクリーン・エネルギー技術分野で，技術革新を促進するという当社の戦略の一環である」とコメントを寄せた。