IDFは，Intel製半導体を使ってコンピュータを開発する技術者向けフォーラムとして，年2回開催している。最近は，Intel R&D Sessionとして同社の研究開発状況も明らかにしてきた。今回のIDF Spring 2004では，2月18日にSiフォトニクスとして「Siliconizing Photocins: Reseach Goals, Overview, and Preliminary Results」セッションを，Siナノテクノロジーとして「Silicon Nanotechnology」セッションを開催する。
Siフォトニクスに関しては，IntelがIDF Spring 2004開催前日の2004年2月16日に開催した記者説明会で同社Corporate Technology Group, Photonics Research Lab, DirectornoのMario Paniccia氏（写真1）がその概要を明らかにした。
同社は，赤外線レーザーを使ってマイクロプロセサを動作テストする技術を確立しており，Siデバイス中の赤外線と電子に関するサイエンスを熟知しており，その技術をベースにSiフォトニクスに関するデバイス開発に取り組んでいるという。記者説明会では，Siフォトニクス技術を使った位相シフト方式の光モジュレーターが，1GHzで動作したことをデモンストレーションした（写真2）。IDFのセッションでは，SiGeを使ったフォトディテクターについても明らかにし，光ファイバを直接接続できるSiベースの光送受信機を1チップ化する構想（写真3）の具体的な技術を論じる。
Siナノテクノロジーに関しては，まず，既存のSi半導体製造技術を微細化していくための，low-k，金属ゲート，ひずみSi，3ゲート構造などを紹介する。そして，カーボンナノチューブ，Siナノワイヤー，分子・量子コンピューティングに関する研究開発状況についても発表する。さらに，ナノテクノロジーに関する環境・健康問題関する研究も紹介する。（神保 進一＝サンフランシスコ発）
【写真1】Intel, Photonics Research Lab, DirectorのMario Paniccia氏
【写真2】Siフォトニクス技術を使った光モジュレーターが1GHzで動作した
【写真3】IntelのSiフォトニクス技術を使って光送受信機を1チップ化する構想（出典：Intel）
