半導体製造 プロセス技術や工場の動向を知るための
 
梅田 浩司=ルネサスエレクトロニクス
2013/09/30 19:00
印刷用ページ

拡散

[画像のクリックで拡大表示]

 ここから、拡散について説明します。すでに酸化膜中を酸素が拡散することや、不純物が再分布するという話をしましたが、拡散とは、濃度勾配を駆動力とする原子の移動と定義付けできます。ある異なる物質を接合し、接合面での原子の流れをJとすると、原子の流れはフィックの第1法則と呼ばれる式で表されます。すなわち、原子の流れは、ある場所での濃度勾配と定数の積で表されます。この定数Dを拡散係数と呼びます。拡散係数を別に言い換えると、原子が最近接原子位置へ移動する頻度となります。

 さらに、ある場所の原子の濃度の時間変化は、流れ込む原子の量と流れ出す原子の量の差で表されます。これをフィックの第2法則と言います。拡散も大きな範囲では非常に理論的な振る舞いをするため、この法則は良い近似値を与えてくれます。

出典:「半導体プロセス教本」第1章、第2章 (発行 SEMIジャパン、編集 SEMI FORUM JAPANプログラム委員会、監修 出水清史、2012年9月第五版より) 

ルネサス エレクトロニクス株式会社
梅田浩司
生産本部 プロセス技術統括部 プロセス成膜技術部
ゲートモジュール開発課 主任技師

ここから先は日経テクノロジーオンライン有料会員の方のみ、お読みいただけます。
・会員登録済みの方は、左下の「ログイン」ボタンをクリックしてログイン完了後にご参照ください。
・会員登録がお済みでない方は、右下の「有料会員に申し込む」ボタンをクリックして、申し込み手続を完了させてからご参照ください。

【9月18日(金)開催】
高精細映像時代に向けた圧縮符号化技術の使いこなし方
~H.265/HEVCの基礎から拡張・応用技術とその活用における心得~


本セミナーでは高品質、高信頼、高効率に製品化するために標準化された高圧縮符号化技術、H.265/HEVCについて、その基盤となった符号化技術の進展から映像・製品特性に適切に圧縮符号化技術を使いこなす上で知っておきたい基本とH.265/HEVCの標準化、実装、製品化に向けた基礎及び拡張技術の理解と活用の勘所等について詳解します。詳細は、こちら
会場:中央大学駿河台記念館 (東京・御茶ノ水)

マイページ

マイページのご利用には日経テクノロジーオンラインの会員登録が必要です。

マイページでは記事のクリッピング(ブックマーク)、登録したキーワードを含む新着記事の表示(Myキーワード)、登録した連載の新着記事表示(連載ウォッチ)が利用できます。

協力メディア&
関連サイト

  • 日経エレクトロニクス
  • 日経ものづくり
  • 日経Automotive
  • 日経デジタルヘルス
  • メガソーラービジネス
  • 明日をつむぐテクノロジー
  • 新・公民連携最前線
  • 技術者塾

Follow Us

  • Facebook
  • Twitter
  • RSS

お薦めトピック

日経テクノロジーオンラインSpecial

記事ランキング