「EUV(extreme ultraviolet)露光が現実のものになりつつある」。このような認識が,2008年2月末に開催されたリソグラフィ関連技術の国際学会「SPIE Advanced Lithography 2008」で,技術者の間に広がった。LSIメーカーがEUV露光でデバイスを試作し,その有効性を実証するとともに,製造装置メーカーがハーフ・ピッチ11nm世代までのEUV露光装置の開発ロードマップを公表したからである。EUV露光の最大の課題となっている光源についても,平均出力が高まり,目標達成への道筋が見えてきた。
この記事は会員登録で続きをご覧いただけます
-
会員の方はこちら
ログイン -
登録するとマイページが使えます
今すぐ会員登録(無料)
日経クロステック登録会員になると…
・新着が分かるメールマガジンが届く
・キーワード登録、連載フォローが便利
さらに、有料会員に申し込むとすべての記事が読み放題に!
春割キャンペーン実施中!
>>詳しくは
日経クロステックからのお薦め
日経BP 総合研究所がお話を承ります。ESG/SDGs対応から調査、情報開示まで、お気軽にお問い合わせください。
ブランド強化、認知度向上、エンゲージメント強化、社内啓蒙、新規事業創出…。各種の戦略・施策立案をご支援します。詳細は下のリンクから。
「デジタル&ソリューション」をキーワードに、多様な事業を展開しています。
日経BPは、デジタル部門や編集職、営業職・販売職でキャリア採用を実施しています。デジタル部門では、データ活用、Webシステムの開発・運用、決済システムのエンジニアを募集中。詳細は下のリンクからご覧下さい。