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HOMEエレクトロニクス電子デバイスDAC 2014 > 微細プロセス露光の光源照度の最適化手法で早大が発表、既存手法に比べて8倍高速化

DAC 2014

微細プロセス露光の光源照度の最適化手法で早大が発表、既存手法に比べて8倍高速化

  • 小島 郁太郎=日経エレクトロニクス
  • 2014/06/05 06:30
  • 1/1ページ
半導体プロセス技術の微細化に伴うバラつき増加などに対応するためにSMO(source mask optimization)が注目を集めている。SMOは文字どおり、マスクパターンとソース(露光用の光源)の両方を調整して、最適化を図ろうというものだ。
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