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HOMEエレクトロニクス電子デバイスnano tech 2013 > 【ナノテク展】東芝、NANDフラッシュへの適用を視野に自己組織化現象を利用したリソグラフィ技術を紹介

nano tech 2013

【ナノテク展】東芝、NANDフラッシュへの適用を視野に自己組織化現象を利用したリソグラフィ技術を紹介

  • 木村 雅秀=日経エレクトロニクス
  • 2013/02/01 21:55
  • 1/1ページ
 東芝は、高分子の自己組織化現象を利用して微細なパターンを形成するDSA(directed self-assembly)と呼ぶリソグラフィ技術を、「nano tech 2013(第12回 国際ナノテクノロジー総合展)」(東京ビッグサイト)に出展した。ブースでは、コンタクト・ホールへの応用事例を紹介した。

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