DRAMでも本格化するCu配線，高歩留まり・低コストを引っ提げ東京エレクトロンが装置事業に参入

図2：東京エレクトロンが提案するプロセス（右）と従来プロセス（左）
図2：東京エレクトロンが提案するプロセス（右）と従来プロセス（左）

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