エレクトロニクス
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HDDとSSDを使いこなす
[第1回]HDDの構造を把握して、故障原因の理解を深める
エレクトロニクス機器のストレージとして広く普及するHDDとSSD。しかし、それらの不具合が原因で、製品の開発遅延や出荷後の動作不良を招く事態が発生することがある。そこで本連載で…
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プロセス製造技術総覧
【第9回●配線と平坦化(1)】メッキと低圧CMPが基幹技術
連載の第9回と第10回では,LSIの微細化と多層化に伴って配線の断線やパターン崩れを防ぐための必須技術となったメッキとCMP(化学的機械研磨:chemical mechanic…
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WSTS世界半導体統計
WSTS世界半導体統計(~2013年1月)
2013年1月までの世界半導体市場統計データをまとめました。データは、世界半導体市場の製品別出荷額(1994年1月~2013年1月)、世界半導体市場の地域別出荷額(1986年…
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プロセス製造技術総覧
【第8回●ゲート・プロセス:材料・装置編】クラスタ装置で連続処理
前回(第7回)はゲート・プロセスの原理と動向を解説した。今回は、45~32nmノードで量産化するプレーナ構造のMOS FETを前提に、high-k 膜とメタル・ゲートの具体的な…
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プロセス製造技術総覧
【第7回●ゲート・プロセス:原理&動向編】SiO2からhigh-k/メタルへ、材料革新で薄膜化の限界を突破
連載の第7回と第8回では,MOS FETの性能を左右するゲート・プロセスを取り上げる。MOS FETはSiO2ゲート絶縁膜の薄膜化によって高性能化を達成してきた。その薄膜化が,…
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Tabula、Intelの22nm世代プロセスで製造するFPGAを市場投入
米Tabula社は2013年3月26日(米国時間)、米Intel社の22nm世代トライゲート・プロセスで製造する最初のFPGA製品「ABAX2P1 3PLD」を発表した。デー…
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ルネサス新社長の鶴丸氏、「まずは従業員が明るく働ける職場づくりに徹する」
ルネサス エレクトロニクス 代表取締役社長に2013年2月22日付で就任した鶴丸哲哉氏は、同年3月25日に東京都内の同社本社で報道機関のインタビューに応じ、経営再建に向けた抱…
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プロセス製造技術総覧
【第6回●リソグラフィ技術(2)】最新技術「液浸露光」と「2重露光」を学ぶ
第5回に続き、リソグラフィ技術を見ていく。今回は、高解像度化を進めるための取り組みについて、液浸露光や2重露光といった最新の話題を含めて紹介する。
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主要半導体デバイス価格推移
【主要半導体デバイス価格推移】2003年1月~2013年2月
2003年1月から2013年2月までのデバイス価格推移(DRAM、フラッシュメモリ、MPU)がExcelデータでダウンロードできます。
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プロセス製造技術総覧
【第5回●リソグラフィ技術(1)】装置から回路レイアウトまで総合技術で高解像度化
連載の第5回と第6回では,微細加工プロセスの要であるリソグラフィ技術を取り上げる。リソグラフィは,素子の位置と寸法を決める基盤技術であり,ここが揺らぐと,設計通りの回路性能は望…
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プロセス製造技術総覧
【第4回●CMOSデバイス(3)】プロセス技術はモジュール化が進展
デバイスの高集積化を支えるプロセス技術は,全体をモジュール・プロセスに分割し,検討できるようになった。これは,1990年代後半にCMPが導入され,ウエーハをほぼ理想的な平坦状に…
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プロセス製造技術総覧
【第3回●CMOSデバイス(2)】マイクロプロセサ、MOSトランジスタと配線を学ぶ
第2回でCMOSデバイスのうち、DRAM、SRAM、フラッシュ・守り―、FeRAM、MRAMを見てきた。第3回はマイクロプロセサについて紹介する。さらにその基本素子であるMOS…
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清水洋治の半導体産業俯瞰
第2回●「第3ラウンド」を迎えたアジアのエレクトロニクス市場
今回は、2012~13年にどのような市場変化が起こっているかを考察する上で、誰もが知っているスマートフォンの世界ではなく従来型の携帯電話機(フィーチャーフォン)の動向を、アジ…
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プロセス製造技術総覧
【第2回●CMOSデバイス(1)】新材料・新構造を導入し、高集積化の壁を打破
プロセス装置技術を理解するためには,最終的に作ろうとしているデバイス構造を知ることが欠かせない。このような視点から,連載の第2~4回では,まずDRAMやフラッシュ・メモリー,マ…
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プロセス製造技術総覧
【第1回●総論】LSI性能を左右するプロセス装置、本命技術を中心に総覧
この連載は,プロセス装置技術の理解を深めることが目的となる。教科書との大きな違いは,技術候補を単に羅列するだけではなく,本命技術を浮き彫りにすることにある。第2回以降,LSIに…
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オシロスコープを使いこなす ~基礎から測定の勘どころまで~
[第2回]アナログ部との付き合い方で、測定精度が大きく変わる
開発現場で多用される測定器であるオシロスコープ。正しい測定結果を得たり、機能を最大限活用したりするにはコツが要る。連載第2回となる今回は、オシロスコープの測定性能を引き出す上…
日経クロステック Special
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