磁気テープの層構造(図:ソニー、以下同)
磁気テープの層構造(図:ソニー、以下同)
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磁性層の断面
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 ソニーは米IBM社のスイス・チューリッヒ研究所と共同で、面記録密度が201Gビット/(インチ)2と高い磁気テープを開発した。磁気テープカートリッジに換算すると、約330Tバイトを達成できる水準で、現行のカートリッジ製品に比べて約20倍の面記録密度だという。今回、ソニーが記録媒体やテープ作成を、同研究所が記録・再生用の磁気ヘッドやサーボ制御技術、信号処理技術といったドライブ技術を担当した。

 開発した磁気テープの磁性層には、平均の大きさが7nmほどの微細な磁性粒子を有する「ナノグレイン磁性膜」を採用。同サイズのナノグレイン磁性膜は既に開発済みだった(関連記事)。今回は、この磁性膜を利用しつつ、テープ媒体の長さと信頼性を実用水準に高めた形である。

スパッタリングの条件などを改善

 現行のテープカートリッジ製品のテープ長はおよそ1000m弱。例えば「LTO7」のテープカートリッジの場合、長さは960mだという。これに対して、今回の開発品は1000mの長さを実現した。テープの長尺化は製造技術の改善で達成した。

 現行の磁気テープ製品は主に塗布法で作られる。これに対してソニーは、スパッタリングで磁性体をベースフィルムに付け、磁性層を形成する。塗布法では、接着・粘着性があるバインダーに磁性体を混ぜてベースフィルムに塗って磁性層を作る。スパッタリングの方が、バインダーが存在しない分、記録容量を増やしやすい利点がある。ただし、塗布法に比べて「作るのが難しい」(ソニー)。そこで、スパッタリングの条件を改善することなどで、磁性粒子のばらつきを抑えたり、長尺化したりした。

 スパッタで形成できる磁性膜も平坦で、Ra(算術平均粗さ)は0.9nmである。塗布法で作った製品の場合、Raは2nmほどだという。面記録密度を高めるために磁性粒子を小さくすると、その分磁場が弱まるので、磁気ヘッドをより磁性層に近づけなくてはならない。そのために、平坦性を高めることが求められるという。