2016年2月1日、「ISSCC 2016」（2016年1月31日～2月4日、米国サンフランシスコ）の基調講演では4人が登壇した。最初に講演したのは米Intel社のWilliam M. Holt氏（Executive Vice-President and General Manager,Technology and Manufacturing Group）。タイトルは「Moore’s Law: A Path Forward」。ムーアの法則はいまだ健在で、それを支えている技術としてのCMOSと”Beyond CMOS”を考察した内容だった。

　Holt氏は、豊富なデータを使ってムーアの法則を継続する経済合理性があることを説明した。この法則がICの経済性の観点からの提案であることを確認した上で、この法則に対する関係者の不安が経済性を今後も継続できるかという点になっているとして、それに応える形で話を展開した。

　まずは膨れ上がり続けている研究開発投資がそれ以上の製造コスト削減効果をもたらしていること、結果として1トランジスタ当たりのコスト削減がムーアの法則を14nm、10nmのプロセス世代でも継続していることを示した。ウエハーのプロセスコストの増大で面積当たりのコストは上がり続けているものの、トランジスタ当たりのコストで見ると7nm世代に向けてムーアの法則に乗ってくるとする。

　ただしムーアの法則に従って進歩してきた技術の方向性は、ここへ来て変わりつつあるとも指摘した。これまではプロセス世代の進化に伴う微細化が高速化（低遅延化）と低消費電力化を同時にもたらしてきたが、高速化を犠牲にしても低消費電力化を優先するように変える必要が出てきている。

　低消費電力化という新しい方向性をけん引する可能性があるのが、これまでのCMOS技術に加えてBeyond　CMOS技術となる。同氏が示したグラフでトレンドに乗ってくるBeyond CMOS技術はスピントロニクスの一種である「MESO（Magneto-Electric Spin-Orbital）」だった。ただし同氏は、Beyond CMOS技術がCMOS技術を置き換えることにはならないとする。CMOSを拡張することになると言う。