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HOMEエレクトロニクス鵜飼育弘のテクテク見聞録 > フィルム上にパターン形成、R2R直描露光機の性能向上

鵜飼育弘のテクテク見聞録

フィルム上にパターン形成、R2R直描露光機の性能向上

ディスプレー国際会議「IDW '17」報告

  • 鵜飼 育弘=Ukai Display Device Institute
  • 2017/12/27 05:00
  • 1/6ページ

1. はじめに

 アジア最大級のディスプレー国際会議「24th International Display Workshops(IDW '17」(2017年12月6日~8日、仙台国際センター)で筆者が興味を持った講演を紹介するシリーズ。第4回は、ニコンによる「フレキシブル基板用のロール・ツー・ロール直描露光機」に関する次の論文を取り上げる(論文番号FMC4/FLX5-3)。

・“Novel Direct Imaging Exposure System with High Productivity for Flexible Substrate in Roll-to-Roll Method”

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