NE用語
Siフォトニクス
シリコンフォトニクス
2005/06/06 15:14
Si基板上に光素子を形成する技術。従来は光素子の材料にGaAsやInPといった化合物半導体を用いていたが，Si系材料を使えば製造コストを安価にできる。CMOS技術でLSIに光素子を集積することで，例えばチップ間のデータ伝送のために光配線を用意して，データ転送速度を高めたり，配線遅延を抑えたりする効果が期待できる。
Siフォトニクスを実現するには，10GHz以上の周波数で動作する受光素子，発光素子，光変調器，光導波路をSi系材料で作る必要がある。このうち，実現が最も難しいとされるのが発光素子である。このためSiフォトニクスの最初の用途は，発光素子が必要ないクロック分配になりそうだ。受光素子をLSI中に形成して，チップの外部からSi導波路を通して光を提供すれば済むためである。将来，発光素子の開発が進めば，LSIの内部配線にも光伝送を使える可能性がある。
図 米Intel Corp.が想定するSiフォトニクスの応用先
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