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NEアカデミー

酸化物半導体薄膜トランジスタ開発の最新動向と将来展望

~注目技術の基礎から応用まで~

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本セミナーは都合により中止とさせていただきます。
何卒ご了承くださいますようお願い申し上げます。

酸化物半導体は、従来のシリコン系薄膜とは異なる魅力的な特長から、次世代ディスプレーを実現する材料として、注目が集まっている。

NEアカデミーでは、材料の基礎的物性からデバイス構造、応用分野に至るまでを広く概説する。また、フレキシブルデバイスを目指した新しいプロセスについても紹介する。さらに、ディスプレー用途だけでなく、メモリやセンサーなど新規応用に向けた最新開発動向をわかりやすく解説する。

概要

日時:2014年06月12日(木)10:00~17:00(開場09:30)予定
会場:化学会館 7F(東京・御茶ノ水)
主催:日経エレクトロニクス

受講料(税込み)

  • 一般価格54,000円
  • 日経エレクトロニクス読者価格43,200円
  • 一般価格には「日経エレクトロニクスDigital版セット購読(最新号1冊+1年26冊)」が含まれます。 ご送本開始は開催後になります。
  • 日経エレクトロニクス(雑誌、Digital版、Digital版セット)定期購読者は、NE読者価格でお申し込みいただけます。
  • 日経エレクトロニクスPremium定期購読者は、Premium読者価格(一般価格の50%割引)で受講いただけます。
  • ※受講料には、昼食は含まれておりません。
  • ※一般価格に含む「日経エレクトロニクスDigital版セット購読」を登録させていただく方には、NEニュースを配信設定いたします。
  • ※満席になり次第、申込受付を締め切らせていただきますので、お早めにお申し込みください。

講師紹介

浦岡 行治 氏 (うらおか ゆきはる)

奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授

1985年 豊橋技術科学大学 修士課程終了
1985年 松下電器産業(現パナソニック)入社、半導体研究センター配属
1994年 同社 液晶開発センター
1999年 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授
2009年 現在に至る

プログラム詳細

10:00 - 17:00

1. 透明酸化物薄膜の基礎物性

1.1 酸化物材料の歴史
1.2 酸化物材料の基礎物性
1.3 酸化物材料の電気伝導機構

2. 薄膜トランジスタの動作原理

2.1 デバイス構造
2.2 酸化物TFTの電気性能評価技術

3. 薄膜トランジスタの製造プロセス

3.1 薄膜形成技術
3.2 製造プロセス

4. 高性能化技術

4.1 界面制御手法
4.2 レーザ照射法

5. 信頼性評価技術

5.1 劣化メカニズム(電気的劣化、発熱劣化、光劣化)
5.2 評価手法
5.3 高信頼性化技術

6. 酸化物半導体の将来展望

6.1 酸化物TFTの今後
6.2 新応用技術

  • ※途中、昼休憩と午後の小休憩が入ります。
  • ※講演時刻等、随時更新いたします。また、プログラムは変更になる場合があります。あらかじめご了承願います。
本セミナーは都合により中止とさせていただきます。
何卒ご了承くださいますようお願い申し上げます。

■受講料のお支払い:
お支払い方法が「請求書」の方には、後日、受講券・請求書をご郵送いたします。
ご入金は銀行振込でお願いいたします。なお、振込手数料はお客様のご負担となりますので、あらかじめご了承ください。
「クレジットカード支払」の方には、受講券のみをお送りいたします。
■お申し込み後のキャンセルおよび欠席:
お申し込み後のキャンセル、ご送金後の返金はお受けいたしかねます。代理の方が出席くださいますようお願いいたします。
■最少開催人員:
15名。参加申込人数が最少開催人員に達しない場合は、開催を中止させていただくことがあります。

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