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開発現場における、中国特許の調べ方、出願、トラブル対策の勘所

中国特許がなぜ重要か、技術者なら知っておきたい中国特有の実態と基礎知識

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お申し込み受付は終了しました

※当日受付を承ります。直接会場にお越しください。

 技術者にとって、中国特許を調べて読みこなし、中国特有の制度を理解しながら、出願する知識は欠かせないものとなりました。

 巨大市場として魅力ある中国での事業拡大は、日本企業のみならず、米国企業、韓国企業、ドイツ企業にとっても同様であり、事業で勝つための中国特許戦略は日々重要となっています。同時に、中国企業の特許出願数は急増しており、高まる技術志向と知的財産権の保護向上によって、技術革新の勢力図は変わりつつあります。中国は訴訟社会であり、日本企業が訴訟に巻き込まれる事件も増加しています。

 中国向け特許出願・訴訟実績の豊富な弁理士である河野 英仁氏が、開発現場に向けた中国特許の現状や他社特許の調べ方、書き方、出願の流れ、紛争トラブル防止策などの勘所を解説します。

 日本と中国との違い、目まぐるしく変わる特許システムを把握しながら、開発現場でパテントマップを作る方法、最低限の中国語の知識で特許概要を把握するコツなどを学びます。

概要

日時:2013年03月19日(火)10:00~17:00 (開場09:30)予定
会場:化学会館 7F(東京・お茶の水)
主催:日経エレクトロニクス

受講料(税込み)

  • 一般価格49,800円
  • 日経エレクトロニクス(NE)読者価格39,800円
  • 一般価格には「日経エレクトロニクスDigital版セット購読(最新号1冊+1年26冊)」が含まれます。 ご送本開始は開催後になります。
  • 日経エレクトロニクス(雑誌、Digital版、Digital版セット)定期購読者は、NE読者価格でお申し込みいただけます。
  • 日経エレクトロニクスPremium定期購読者は、Premium読者価格(一般価格の50%割引)で受講いただけます。
  • ※受講料には、昼食は含まれておりません。
  • ※一般価格に含む日経エレクトロニクス購読をご登録させていただく方には、NEニュース配信を設定いたします。
  • ※満席になり次第、申込受付を締め切らせていただきますので、お早めにお申し込みください。

プログラム詳細

講師

河野特許事務所
弁理士

河野 英仁 氏

10:00 - 17:00

中国特許がなぜ重要か -実態を学ぶ-

1. 失敗事例を教訓に学ぶ、中国特許対策

 世界中に模倣品が蔓延した事例
 出願、調査を怠ったために巨額の差し止め・損害賠償を命じられた事例
 アップルがiPhone搭載アプリ関連技術で、中国企業に提訴された事件
 パソコン関連技術で、東芝が敗訴した事件
 トラブル事例を通じて、技術者が知っておきたい大原則

2. 中国特許の基礎知識

 中国の特許保護制度と歴史
 特許以外の知的財産権の保護、第3次法改正
 司法アプローチと行政アプローチ、地方保護主義
 特許の種類、実用新案、意匠
 判例と司法解釈、
 外国特許出願の基礎、パリ条約、PCT出願

3. 急増する出願状況と支援する政府の実態

 発明特許出願統計、実用新案特許出願統計
 意匠特許出願統計、国際特許出願統計
 特許訴訟統計
 中国政府の支援の実態
 今後の出願動向
 中国特許庁、審査協力センター

中国特許の調べ方

4. 調査ツールとその使い方

 中国特許調査Webサイト
 具体的な調査手順の紹介、便利な機能
 パテントマップの作り方
 英語での中国特許調査、日本語での中国特許調査
 なぜ、審査経過の調査が必要か
 Webを用いた競合他社特許の審査経過取得方法

出願前に戦略を練る

5. 発明特許以外での権利化も有効

 実用新案登録出願の活用と注意点
 権利化後の補正の仕組み
 重複特許出願により保護を万全とする
 特許権評価報告制度
 意匠登録出願の活用と注意点
 中国特有の意匠特許制度
 なぜ、実用新案特許はつぶれにくいのか?

6. マニュアルやプログラムなどの著作権はどう登録するのか

 マニュアル、カタログ
 コンピュータ・プログラムはどうすべきか
 立証の困難性、転職に伴うプログラム流出、
 日常業務上での注意点、著作権登録
 5つの権利の活用

書く際の注意点と出願の流れ

7. 出願から登録までの流れと特許要件

 出願から登録までの流れ
 中国特有の提案書の書き方
 新規性、抵触出願、創造性
 研究発表、プレスリリース時の注意点
 記載要件 サポート要件
 実施例限定要求を防ぐには、不明確(NGワード)、技術的特徴欠如要件
 パラメータ特許の注意点
 ソフトウエア特許取得上の注意点
 ビジネスモデル特許の落とし穴

8. 拒絶理由を受けた場合の対応法

 補正できる範囲・時期
 自発補正と受動補正
 分割出願要件
 優先審査と特許審査ハイウェイ(PPH)
 面接審査
 中国で有効特許を取得するコツ

9. 登録された後の手続き 競合他社特許対策

 無効審判 競合他社に気付かれないようにするには
 権利取得後の補正
 訴訟との関係
 情報提供
 無審査で大量登録される実用新案特許への対策、低コストでの対策方法

10.技術者が知っておきたい中国特有の注意点

 先使用権 先使用権の落とし穴
 公証による先使用権
 中国で発明した場合の注意点

11.改正法

 第4次専利法改正のポイント

  • ※講演時刻等、随時更新いたします。また、プログラムは変更になる場合があります。あらかじめご了承願います。

お申し込み受付は終了しました

※当日受付を承ります。直接会場にお越しください。

講師紹介

河野 英仁 氏 (こうの ひでと)

河野特許事務所 弁理士

河野 英仁 氏

1998年、立命館大学大学院 理工学研究科情報システム学 博士前期課程修了。1999年、弁理士登録。2003年から米国Birch,Stewart,Kolasch & Birch,LLPに勤務。2005年、米国Franklin Pierce Law Centerにて知的財産権法 修士修了。2007年、特定侵害訴訟代理人登録、清華大学法学院に留学。中国知的財産権法 夏期講習修了。2009年、日本国際知的財産権保護協会 「コンピュータ・ソフトウェア関連およびビジネス分野等における保護」に関する研究会委員。2010年、北京同逹信恒知識産権代理有限会社にて実務研修。
著書に「中国特許訴訟実務概説 第3次改正専利法及び改正中国民事訴訟法対応版」(張嵩と共著、発明協会2011年1月)、論文に「中国特許権侵害訴訟の傾向と分析~中国企業に狙われる外国企業~」(パテント2010年3月号)、「中国におけるコンピュータ・ソフトウェア及びビジネス方法関連発明の特許性~審決及び判例に基づく特許性の分析~」(聶寧楽と共著、AIPPIジャーナル2010年2月号)など。

■受講料のお支払い:
後日、受講券・ご請求書を郵送いたします。ご入金は銀行振込でお願いいたします。
なお、振込手数料はお客様のご負担になりますので、あらかじめご了承ください。
■お申し込み後のキャンセルおよび欠席:
お申し込み後のキャンセル、ご送金後の返金はお受けいたしかねます。代理の方が出席くださいますようお願いいたします。
■最少開催人員:
20名。参加申込人数が最少開催人員に達しない場合は、開催を中止させていただくことがあります。

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