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NEアカデミー 明日の仕事に役に立つ、プラズマ・エッチングの基礎と実例 《デモ付》

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プラズマ・エッチング

明日の仕事に役に立つ、

プラズマ・エッチングの基礎と実例 《デモ付》

― 半導体プロセスを中心として、グリーン エッチング イノベーションを展望 ―

事前申込は終了しました
※当日受付を承ります。直接会場にお越しください。

エッチング技術は、ULSIからマイクロマシン・バイオに至る、デバイスプロセスの基幹技術です。半導体デバイスの集積化が進むにつれて、微細化や大口径化に対応し、均一でかつ高速に10以上の高アスペクト比をダメージフリーで加工する技術が要求されています。

最近は、低誘電率膜やメタル配線などの新材料、MEMSやウエハーの実装等に関する、新しい構造に対応したエッチング技術が展開されています。さらに、大気圧非平衡プラズマが開発され、新しい応用分野が開拓されています。

本講座では、2日間にわたり、半導体プロセスを中心としたエッチング技術の基礎から応用、最新技術とその展開についてわかりやすく解説し、これからの技術課題をまとめます。また、例題を挙げて、エッチングの物理・化学および装置設計に対する考え方を説明することにより、エッチング技術を効率的かつ完全に理解できるようにします。

さらに今回は、最近注目を集めている大気圧プラズマによる処理技術について、デモ機を用いての実演を行い、受講者のプラズマ・エッチングへの理解を深めます。

概要

日時:2013年01月15日(火)~16日(水) 10:00~16:30(開場09:30)予定
会場:日本工業大学 神田キャンパス(東京・神保町)
主催:日経エレクトロニクス

受講料(税込み)

  • 一般価格84,800円(2日間)
  • 日経エレクトロニクス(NE)読者価格76,800円(2日間)
  • ◇一般価格には「日経エレクトロニクスDigital版セット購読(最新号1冊+1年26冊)」が含まれます。 ご送本開始は開催後になります。
  • ◇日経エレクトロニクス(雑誌、Digital版、Digital版セット)定期購読者の皆様は、NE読者価格でお申し込みいただけます。
  • 日経エレクトロニクスPremium定期購読者の皆様は、Premium読者価格(一般価格の50%割引)で受講いただけます。
  • ※受講料には、昼食は含まれておりません。
  • ※一般価格に含む日経エレクトロニクス購読をご登録させていただく方には、NEニュース配信を設定いたします。
  • ※満席になり次第、申込受付を締め切らせていただきますので、お早めにお申し込みください。

プログラム詳細

講師

名古屋大学大学院

工学研究科 電子情報システム専攻 教授

堀 勝 氏

1月15日(火)
【1日目】


10:00~16:30

1. 半導体プロセスにおけるエッチング技術

トップダウン技術とボトムアップ技術/ ULSIにおける微細化スケーリング則とエッチング


2. エッチング反応機構(気相および表面反応)

物理および化学スパッタエッチング/ ケミカルドライエッチング/ 反応性イオンアシストエッチング/ ダメージ誘起エッチング/ 選択エッチングのための物理化学と考え方/ 形状制御のための物理化学と考え方/ 高速エッチングのための物理化学と考え方/ 電子温度とその制御法/ イオン・ラジカルの制御方法と粒子バランス


3. エッチング・リアクタの構造、励起周波数と特徴

エッチング・リアクタの構造と特徴[リアクターへの要求/ 低圧高密度プラズマ・プロセスのためのリアクター/ プラズマ・エッチング装置の種類とその基本原理/ 高密度プラズマ源/ 励起周波数の効果/ 粒子加熱機構]


4. エッチング・プラズマの計測技術の基礎と最前線

プローブ法/ 発光分光法/ 赤外半導体レーザー吸収分光法/ レーザー誘起蛍光法/ 真空紫外・紫外・可視吸収分光法/ 出現質量分析法/ レーザー脱離法/ マイクロ波干渉計/ 電子付着型質量分析法/ イオン付着型質量分析法/ レーザートムソン散乱法


5. ゲート電極、高・強誘電体キャパシタのエッチング

ゲート電極エッチング/ 高精度形状制御プロセス(CD制御)/ Ptエッチング/ BSTエッチング/ 不揮発性生成物材料/ MRAM(磁性体)エッチング


6. コンタクトホールのエッチング

高アスペクトSiO2選択エッチング/ SACエッチング・プロセス/ マイクロローディング・プロセス


7. 低誘電率層間絶縁膜のエッチング

高集積化・微細化の動向/ ULSI多層配線構造図/ 高集積・微細化の問題点/ Low-k膜の必要性/ 低誘電率(Low-K)層間絶縁膜の特徴/ 低誘電率材料の開発トレンド
1)有機Low-k膜 [エッチング速度/ エッチング形状/ エッチング特性を決定しているプラズマ・パラメーター/ エッチング表面反応]
2)SiOCH膜 [エッチング特性を決定している因子/ 高精度エッチング制御技術/ デュアルダマシンとそのエッチング/ 多層レジストプロセス]


8. メタル配線材料のエッチング

AIエッチング/ Wエッチング/ 多層配線エッチング・プロセス


9. アッシング、ダウンフローエッチング

高速レジストアッシング/ ケミカルドライエッチング/ Low-kアシングダメージ

1月16日(水)
【2日目】


10:00~16:30

10. エッチング・プロセスダメージとその評価技術

チャージアップダメージ/ 電子シェーディング機構/ コンタミネーションダメージ/ 新しいダメージ評価法


11. 実装プロセス、およびMEMSにおけるエッチング技術

高速・高アスペクト比エッチング(ボッシュ法)/ 3次元加工プロセス/ ウエハ加工/ 平坦化プロセス


12. 大気圧プラズマを用いた新しいエッチング技術

材料プロセスに向けた、非平衡大気圧プラズマの基礎と装置/ 大気圧プラズマの計測/ SiO2超高速超高選択比エッチング・プロセス/ 有機膜超高速エッチング・プロセス/ コンパクトマイクロ波励起非平衡大気プラズマ/バイオプロセスへの応用/ 環境・医療プロセスへの応用


13. 新しいエッチング・プロセス技術

パルス変調プロセス/ デジタルプロセス/ 高速中性粒子エッチング/ 環境調和型エッチング/ 自律型エッチング制御システム


14. まとめと今後の展望

先端ナノエッチング・プロセス技術とグリーンエッチング・プロセスへの展望/ エッチング加工限界とそのブレークスルー


15. 大気圧プラズマのデモと実機を用いたティーチング、Q&A

  • ※途中、昼休憩と午後の小休憩が入ります。
  • ※講演時刻等、随時更新いたします。また、プログラムは変更になる場合があります。あらかじめご了承願います。
事前申込は終了しました
※当日受付を承ります。直接会場にお越しください。

講師紹介

堀 勝 氏

堀 勝 氏 名古屋大学大学院 工学研究科 電子情報システム専攻 教授

最終学歴(Academic Record)
1986年 名古屋大学大学院 工学研究科電子工学専攻 博士後期課程修了、工学博士(名古屋大学)取得。

職歴(Employment Record)
1986年 東芝入社。総合研究所 超LSI研究所、ULSI研究所にて従事。
1992年 名古屋大学 助手(工学部)、1996年 名古屋大学 助教授(工学部)。
1997年 英国ケンブリッジ大学 キャベンディッシュ研究所 客員研究員。
1999年 名古屋大学 助教授(工学研究科)、2004年 名古屋大学 教授(工学研究科)、現在に至る。
2009年~2011年 名古屋大学大学院 工学研究科附属 プラズマナノ工学研究センター長兼務。

主な研究テーマ(Topics of Research)
次世代ULSI微細加工・薄膜ナノプロセスに関する研究
量子光学技術による原子・分子・ラジカル計測に関する研究
ラジカル制御によるカーボンナノウォールの創成とデバイス応用
微結晶シリコン薄膜の低温形成と太陽電池、フレキシブルデバイスへの応用
自律型ナノ製造装置の開発
プラズマ医療及び生命科学への応用

所属学会(Affiliation)
応用物理学会、Materials Research Society、電子情報通信学会、米国真空学会、表面技術協会

受賞(Award)
11th APCPST&25th SPSM Plasma Science Award受賞(2012年)
応用物理学会 第6回 フェロー表彰(2012年)
日本高温学会 論文賞受賞(2012年)
産学官連携功労者表彰 科学技術政策担当大臣賞受賞(2011年)
科学技術分野の文部科学大臣表彰 科学技術賞(研究部門) (2010年)
Interfinish 2008 17th World Interfinish Congress & Exposition (Invited Presentation Award) (2008年)
プラズマ材料科学賞(2004年)
JJAP Editorial Contribution Award (2004年)
プラズマエレクトロニクス賞 (2003年)
マイクロプロセスナノテクノロジー国際会議2000 Award (最優秀発表賞) (2001年)

プロジェクト(Project)
文部科学省 知的クラスター創成事業(第2期) 「テーマ1 先進プラズマナノ基盤技術の開発」「広域化プログラム」(2008年~2012年、代表)
科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業 CREST 「プラズマナノ科学創成によるプロセスナビゲーション機構とソフト材料加工」(2007年~2011年、代表)
経済産業省 地域新生コンソーシアム研究開発事業「自律型四次元大気圧プラズマ製造装置の研究開発」(2005年~2006年、代表)
文部科学省 知的クラスター創成事業(第1期)「ナノアセンブリングシステム開発」(2003年:分担、2004年~2007年:代表)

■E-mailアドレス:
お申し込みにはE-mailアドレス(携帯電話不可)が必要です。
■受講料のお支払い:
後日、受講券・ご請求書を郵送いたします。ご入金は銀行振込でお願いいたします。
なお、振込手数料はお客様のご負担になりますので、あらかじめご了承ください。
■お申し込み後のキャンセルおよび欠席:
お申し込み後のキャンセル、ご送金後の返金はお受けいたしかねます。代理の方が出席くださいますようお願いいたします。
■最少開催人員:
10名。参加申込人数が最少開催人員に達しない場合は、開催を中止させていただくことがあります。

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