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NEアカデミー 開発現場における中国特許の調べ方、書き方、出願の勘所

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事前申込は終了しました
※当日受付を承ります。直接会場にお越しください。

技術者にとって今後、中国特許を調べて読みこなし、中国特有の制度を理解しながら出願する知識は欠かせないものとなります。

一昔前は、「中国で特許を取得しても保護されない」という声が多くありました。しかし、現状は大きく変わっています。司法による特許の保護レベルは、先進国に引けをとらない水準に達しました。その結果、出願件数が激増し、2011年の出願件数は日本及び米国を抜いて、世界一となることが確実視されています。また、中国は訴訟社会であり、外国企業が中国で訴訟に巻き込まれる事件も増加しています。

中国向け特許出願実績の豊富な弁理士である河野 英仁氏が、開発現場に向けた中国特許の現状や他社特許の調べ方、書き方、出願の流れなどの勘所を解説します。日本と中国との違い、目まぐるしく変わる特許システムを把握しながら、現場でパテントマップを作る方法、最低限の中国語の知識で特許概要を把握するコツなどを学びます。


概要

  • 日時:2012年3月30日(金) 10:00~17:00 (開場9:30予定)
  • 会場:化学会館(東京・お茶の水)
  • 主催:日経エレクトロニクス

受講料(税込み)

  • 一般価格:48,800円
  • 日経エレクトロニクス(NE)読者価格:39,800円

◇ 一般価格には「日経エレクトロニクス購読(最新号1冊+1年26冊)」が含まれます。ご送本開始は開催後になります。

◇ 日経エレクトロニクス定期購読者の方は、NE読者価格でお申し込みいただけます。

日経エレクトロニクスPremium定期購読者の方は、Premium読者価格(一般価格の50%割引)で受講いただけます。

※ 受講料には、昼食は含まれておりません。
※ 一般価格に含む日経エレクトロニクス購読をご登録させていただく方には、NEニュース配信と、読者限定サービスのアクセス権を設定いたします。
※ 満席になり次第、申込受付を締め切らせていただきますので、お早めにお申し込みください。

プログラム詳細

講師

河野特許事務所
弁理士
 河野 英仁 氏

10:00~17:00

中国特許がなぜ重要か -実態を学ぶ-

1. 模造品被害の実態と新たな展開
被害の状況、他国との比較でみる模造品被害の実態、中国企業の台頭
日本企業が提訴された最近の事件

2. どこまで保護されるか
中国の特許保護制度と歴史
特許以外の知的財産権の保護、第3次法改正
司法アプローチと行政アプローチ、地方保護主義

3. 基本知識
特許の種類、実用新案、意匠
判例と司法解釈、外国特許出願の基礎
パリ条約、PCT出願

4. 急増する出願状況と支援する政府の実態
発明特許出願統計、実用新案特許出願統計
意匠特許出願統計、国際特許出願統計
特許訴訟統計
中国政府の支援の実態、中国版新幹線に見る中国企業の特許戦略
今後の出願動向

5. 事例にみる、外国企業が特許訴訟で負けた理由
・数値限定特許で日本企業が敗訴した事件(富士化水事件)
・実用新案特許でフランス企業が敗訴した事件(シュナイダー事件)
・携帯電話特許で敗訴(サムスン事件)
事例で得られる教訓、技術者は中国で商品を製造・販売する際に何に注意すべきか

中国特許の調べ方

6. 調査ツールとその使い方
中国特許調査の局面と現状、中国特許調査Webサイト、知識産権局HP検索サイトの問題点、
有用な検索サイトの紹介、
具体的な調査手順、無料版と有料版の使い分け、便利な機能、
パテントマップの作り方、英語での中国特許調査、日本語での中国特許調査、
なぜ審査経過の調査が必要か、包袋資料取り寄せ方

出願前に戦略を練る

7. 発明特許以外での権利化も有効
実用新案登録出願の活用、実用新案登録出願の注意点、
権利化後の補正の仕組み、実用新案権の活用、
重複特許出願パリルート/PCTルート?、特許権評価報告、スクリーン事件、
意匠登録出願の活用、法改正に伴う意匠特許の注意点、意匠特許権の活用、ミシン事件
なぜ実用新案特許はつぶれにくいのか?

8. マニュアルやプログラムなどの著作権はどう登録するのか
マニュアル、
コンピュータ・プログラムはどうすべきか、
立証の困難性、転職に伴うプログラム流出、
日常業務上での注意点、著作権登録
5つの権利の活用

書く際の注意点と出願の流れ

9. 出願から登録までの流れと特許要件
出願から登録までの流れ
新規性
発表前に出願を!日本の特許制度との違い
抵触出願
創造性
記載要件 サポート要件
実施例限定要求を防ぐには、不明確(NGワード)、技術的特徴欠如要件
ソフトウエア特許取得上の注意点、ビジネスモデル特許の落とし穴

10. 拒絶理由を受けた場合の対応法
補正できる範囲・時期
自発補正と受動補正
分割出願要件
審査を急がせるには
面接審査
中国で有効特許を取得するコツ

11. 登録された後の手続き 競合他社特許対策
無効審判
権利取得後の補正
訴訟との関係
情報提供

12. 競合他社特許の読み方
オールエレメントルール
均等論
機能的クレーム
間接侵害

※途中、昼休憩と午後の小休憩が入ります。
※講演時刻等、随時更新いたします。また、プログラムは変更になる場合があります。あらかじめご了承願います。

事前申込は終了しました
※当日受付を承ります。直接会場にお越しください。

講師紹介

河野 英仁河野特許事務所 弁理士

1998年、立命館大学大学院 理工学研究科情報システム学 博士前期課程修了。1999年、弁理士登録。2003年から米国Birch,Stewart,Kolasch & Birch,LLPに勤務。2005年、米国Franklin Pierce Law Centerにて知的財産権法 修士修了。2007年、特定侵害訴訟代理人登録、清華大学法学院に留学。中国知的財産権法 夏期講習修了。2009年、日本国際知的財産権保護協会 「コンピュータ・ソフトウェア関連およびビジネス分野等における保護」に関する研究会委員。2010年、北京同逹信恒知識産権代理有限会社にて実務研修。
著書に「中国特許訴訟実務概説 第3次改正専利法及び改正中国民事訴訟法対応版」(張嵩と共著、発明協会2011年1月)、論文に「中国特許権侵害訴訟の傾向と分析~中国企業に狙われる外国企業~」(パテント2010年3月号)、「中国におけるコンピュータ・ソフトウェア及びビジネス方法関連発明の特許性~審決及び判例に基づく特許性の分析~」(聶寧楽と共著、AIPPIジャーナル2010年2月号)など。

■受講料のお支払い:
後日、受講券・ご請求書を郵送いたします。ご入金は銀行振込でお願いいたします。なお、振込手数料はお客様のご負担になりますので、あらかじめご了承ください。

■お申し込み後のキャンセルおよび欠席:
お申し込み後のキャンセル、ご送金後の返金はお受けいたしかねます。代理の方が出席くださいますようお願いいたします。

■最少開催人員:
20名。参加申込人数が最少開催人員に達しない場合は、開催を中止させていただくことがあります。

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