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NEアカデミー ポストSi材料の切り札 透明酸化物半導体を学ぶ

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酸化物半導体
ポストSi材料の切り札 透明酸化物半導体を学ぶ
~東工大 細野研が解説する基礎から応用まで~

事前申込は終了しました

「次世代エレクトロニクスの基幹材料」(韓国Samsung Electronics Co., Ltd.のディスプレイ部門の幹部)と,世界のデバイス技術者が注目する材料が,透明酸化物半導体である。

超高精細の液晶ディスプレイ,有機ELディスプレイ,電子ペーパー。こうした次世代ディスプレイを駆動する薄膜トランジスタ(TFT)材料の最有力候補だ。

このうち特に注目度が高いのが,「透明アモルファス酸化物半導体(TAOS:transparent amorphous oxide semiconductors)」である。Samsung社やLG Display,シャープといった大手ディスプレイ・メーカーが,FPD向けTFTへの応用開発に注力している。このほか,太陽電池やCMOS回路への応用にも期待が集まっている。

透明アモルファス酸化物半導体に関する研究開発ブームの火付け役となったのが,東京工業大学教授の細野秀雄氏のグループである。2004年に透明アモルファス酸化物半導体で高性能のTFTを実現したことにより,産業界からの注目度が一挙に高まった。同氏らのグループはその後も,この材料の研究で世界を先駆ける成果を次々と挙げている。

本アカデミーでは,同グループから細野氏と准教授の神谷利夫氏が登壇し,透明酸化物半導体の基礎から応用までを語り尽くす。


概要

  • 日時:2010年7月8日(木) 10:00~16:00 (開場9:30予定)
  • 会場:化学会館(東京都千代田区)
  • 主催:日経エレクトロニクス

受講料(税込み)

  • 一般価格:45,000円
  • 読者価格:38,000円

◇日経エレクトロニクス,日経エレクトロニクスPremium定期購読者の皆様は,「読者価格」でお申し込みいただけます。
◇一般価格には「日経エレクトロニクス(最新号1冊+1年26冊)」の購読が含まれます。 ご送本開始はセミナー開催後になります。

日経エレクトロニクスPremium読者の方は,
・読者価格からの割引優待(年1回限定)で受講できます。専用ハガキでお申し込みください。
・「割引優待」を利用済みの場合は,上記の読者価格での受講となります。

※ 受講料には,昼食は含まれておりません。
※ 満席になり次第,申込受付を締め切らせていただきますので,お早めにお申し込みください。

プログラム詳細

10:00-11:00

東京工業大学 フロンティア研究センター&応用セラミックス研究所
教授
細野 秀雄 氏

透明酸化物半導体が切り拓くエレクトロニクスの新しいパラダイム

透明酸化物半導体がエレクトロニクス産業にもたらすインパクトやデバイス材料としての魅力,細野研究室における近年の成果や将来展望を解説します。

 ▽透明酸化物半導体がエレクトロニクスにもたらすインパクト
 ▽デバイス材料としての魅力
 ▽細野研究室の近年の研究成果
 ▽酸化物材料のポテンシャル:伝導性を持つセラミックスやFe系高温超伝導材料
 ▽研究の将来展望

11:15-12:00

Q&Aセッション

▽透明酸化物半導体とその応用に関する聴講者からの質問に,細野氏が答えます。

 

13:00-13:50

東京工業大学 応用セラミックス研究所
准教授
神谷 利夫 氏

透明酸化物半導体のデバイス応用 その1

透明酸化物半導体のデバイス応用について,細野研究室における成果を中心に解説します。

 ▽透明酸化物半導体の基本物性
 ▽デバイス応用研究に関する動向
 ▽ディスプレイ向けTFTへの応用(その1)

14:00-14:50

透明酸化物半導体のデバイス応用 その2

透明酸化物半導体のデバイス応用について,細野研究室における成果を中心に解説します。

 ▽ディスプレイ向けTFTへの応用(その2)
 ▽CMOS回路や太陽電池への応用
 ▽透明酸化物半導体のデバイス応用研究の今後の展望

15:10-16:00

Q&Aセッション

 ▽透明酸化物半導体とその応用に関する聴講者からの質問に,神谷氏が答えます。

※途中,昼休憩と小休憩が入ります。

事前申込は終了しました

講師紹介

細野 秀雄東京工業大学 フロンティア研究センター&応用セラミックス研究所 教授

1977年 東京都立大 工学部卒業。1982年 同学大学院 工学研究科博士課程修了(工学博士)。名古屋工業大学 工学部助手,同助教授,東京工業大学 助教授,分子科学研究所 助教授を経て,1999年 東工大 応用セラミックス研究所 教授。2004年10月より現職。この間,JST-ERATO「細野透明電子活性プロジェクト」,文科省COE21 東工大「産業化を目指したナノ材料開拓と人材育成」,JST ERATO-SORST「機能性酸化物プロジェクト」のリーダを歴任。

専門: 無機材料科学(特に新コンセプトによる機能材料の探索)。
表彰: 化学会学術賞,応用物理学会論文賞,文部科学大臣表彰,服部報公賞,井上学術賞,本多フロンティア賞,ナイスな研究者2008,藤原賞,紫綬褒章, Otto-Schott Research Award, W.H.Zachariasen Award, SID Special Recognition Award, Bernd T.Matthias Prizeなどを受賞。


著書:「透明金属が拓く驚異の世界」 ソフトバンククリエイティブ (2006)
「好きなことにバカになる」 サンマーク出版(2010)

神谷 利夫東京工業大学 応用セラミックス研究所 准教授

1991年3月 東京工業大学 大学院修士課程中退,同年4月 東京工業大学 工学部無機材料工学科 助手(酸化物強誘電体の計算機シミュレーションと物性解析),1996年11月 同大学院 総合理工学研究科電子化学専攻 助手,1996年12月 博士(工学)取得(同工学部無機材料工学科),1997年4月 同応用セラミックス研究所 附属構造デザイン研究センター 助手(薄膜シリコン成長技術とデバイス開発),2002年1月 同応用セラミックス研究所 セラミックス機能部門 講師,2003年12月 同助教授(現在 准教授)(酸化物新機能材料と半導体デバイス開発),現在に至る。うち,2000年4月~2002年2月 英国ケンブリッジ大学 キャベンディッシュ研究所マイクロエレクトロニクス研究センター 客員研究員。

専門: 半導体工学,材料科学,計算材料学
表彰: JJAP論文賞(2009),科学技術分野の文部科学大臣表彰 若手科学者賞(2007),薄膜材料デバイス研究会 ベストペーパーアワード(2005),独創性を拓く先端技術大賞 企業・産学部門 特別賞(2005),DV-Xα研究会 研究奨励賞(1998)


著書:「単一電子デバイス」 実験化学講座 第5版 28巻 ナノテクノロジーの化学,丸善(2005)
「Hartree-Fock-Slater Method for Materials Science -The DV-XαMethod for Design and Characterization of Materials」 Springer(2005)
「透明金属が拓く脅威の世界 不可能に挑むナノテクノロジーの錬金術」 ソフトバンククリエイティブ(2006)
「透明導電膜の技術」 オーム社(2006)
「透明酸化物機能材料とその応用」 シーエムシー出版(2006)
「低温ポリシリコン薄膜トランジスタの開発」 シーエムシー出版(2007)
「薄膜トランジスタ」 コロナ社(2008)

※講演時刻等,随時更新いたします。
※プログラムは変更になる場合があります。あらかじめご了承願います。

■受講料のお支払い:
後日,受講券・ご請求書を郵送いたします。ご入金は銀行振込でお願いいたします。なお,振込手数料はお客様のご負担になりますので,あらかじめご了承ください。

■お申し込み後のキャンセルおよび欠席:
お申し込み後のキャンセル,ご送金後の返金はお受けいたしかねます。代理の方が出席くださいますようお願いいたします。

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