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【SPIE】ASML、量産向けEUV露光装置「NXE:3300B」の進捗を報告

  • 木村 雅秀=日経エレクトロニクス
  • 2013/03/01 19:55
  • 1/1ページ
 オランダASML社は、同社の量産向けEUV露光装置「NXE:3300B」の開発状況について「SPIE Advanced Lithography」の最終日に報告した(講演番号8679-50)。
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