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HOMEエレクトロニクス電子デバイス > 【SPIE】ギガフォトン、EUV変換効率を高めるプリパルス技術でデブリも抑制へ

【SPIE】ギガフォトン、EUV変換効率を高めるプリパルス技術でデブリも抑制へ

  • 木村 雅秀=日経エレクトロニクス
  • 2013/02/27 11:42
  • 1/1ページ
 ギガフォトンは、LPP(laser produced plasma)方式のEUV(extreme ultraviolet)光源の開発状況を「SPIE Advanced Lithography」で発表した(講演番号8679-9)。
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