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【SPIE】バースト出力51W、デューティ比80%のEUV光源出力をXTREMEが報告

  • 木村 雅秀=日経エレクトロニクス
  • 2013/02/27 11:37
  • 1/1ページ
 ウシオ電機の100%子会社であるドイツXTREME technologies社は「SPIE Advanced Lithography」においてEUV(extreme ultraviolet)光源の開発状況を報告した(講演番号8679-8)。

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