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HOMEエレクトロニクス電子デバイス > 【SPIE】ASMLがEUV露光におけるペリクルの有効性を確認、実用に近い構造を開発

【SPIE】ASMLがEUV露光におけるペリクルの有効性を確認、実用に近い構造を開発

  • 木村 雅秀=日経エレクトロニクス
  • 2013/02/26 16:46
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 オランダASML社は、EUV(extreme ultraviolet)露光マスクのペリクル(防塵カバー)技術について「SPIE Advanced Lithography」で発表した(講演番号8679-3)。

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