• BPnet
  • ビジネス
  • IT
  • テクノロジー
  • 医療
  • 建設・不動産
  • TRENDY
  • WOMAN
  • ショッピング
  • 転職
  • ナショジオ
  • 日経電子版

HOMEエレクトロニクス電子設計 > Cadence、20nmプロセスに対応のインプリメンテーション設計フローを整備

Cadence、20nmプロセスに対応のインプリメンテーション設計フローを整備

  • 小島 郁太郎=Tech-On!
  • 2012/03/08 18:52
  • 1/1ページ
米Cadence Design Systems, Inc.は、20nmプロセスに対応可能なインプリメンテーション設計フロー「Cadence Encounter RTL-to-GDSII Flow」の最新版を発表した。20nmプロセスでの製造で必須とされるダブル・パターニングや、1GHzを超える高速設計、10億ゲートを超える大規模設計に対応したことが特徴である。
【技術者塾】(6/16開催)
実用化迫る、自動運転支援のためのセンシング技術


安全で安心な自動運転車の実現に向けて、運転自動化支援に必要なセンシングアルゴリズムの基礎理論から、自動運転に向けたさまざまな応用技術、最近の話題などについて、分かりやすく解説します。詳細は、こちら
日程 : 2016年6月16日
会場 : 化学会館 7F(東京・御茶ノ水)
主催 : 日経エレクトロニクス

おすすめ