TEL、300mm塗布現像装置「CLEAN TRACK LITHIUS」を高速に
2012/02/13 14:31
300〜450ウエハー／時を目指す新機種（写真：東京エレクトロン）
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東京エレクトロンは、2012年2月19日、300mmプロセス対応の塗布現像装置「CLEAN TRACK LITHIUS」シリーズの新機種「CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z」を2012年秋に市場に投入する。スループットを高めるなど生産性を高める。
新機種は、2009年に発売した従来機「CLEAN TRACK LITHIUS Pro V」の改良品である。スループットを従来機の250〜275ウエハー／時から、300〜450ウエハー／時に高める計画だ。カップ数は、最大24カップ（1ブロック当たり4カップ×6層）。今後の微細化に対応して、搬送系の改善などディフェクト低減対策を付加する。さらに、OEE（overall equipment efficiency）を従来機から10％弱改善する。従来機の特徴としてきたランニング・コスト低減のコンセプトも継続する。
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