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HOMEエレクトロニクス電子デバイス > 【セミコン・ジャパン】会場でリソ工程を実演、「ミニマルファブ」のファブシステム研究会

【セミコン・ジャパン】会場でリソ工程を実演、「ミニマルファブ」のファブシステム研究会

  • 長廣 恭明=Tech-On!
  • 2011/12/08 13:56
  • 1/1ページ
半導体ラインの最小投資単位をケタ違いに削減することを目指す産総研(産業技術総合研究所:AIST)コンソーシアムのファブシステム研究会は、同研究会が開発を進めている「ミニマルファブ」向け製造装置を「Semicon Japan 2011」(2011年12月7~9日、幕張メッセ)に展示、来場者の目の前でリソグラフィ工程を実演して見せた。半導体工程は、通常は極めてクリーンな環境に専用の大型装置を設置して実施される。いずれも数十億円といった金額が必要で、設置にも数カ月といった期間が必要になる。それを今回は数百~数千万円という金額の製造装置3台を、1日弱で設置して実現した。
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