• BPnet
  • ビジネス
  • IT
  • テクノロジー
  • 医療
  • 建設・不動産
  • TRENDY
  • WOMAN
  • ショッピング
  • 転職
  • ナショジオ
  • 日経電子版

HOMEエレクトロニクス電子デバイス > 2011年度版日本実装技術ロードマップ、TSVによるメモリの超ワイドI/O化技術を記載

2011年度版日本実装技術ロードマップ、TSVによるメモリの超ワイドI/O化技術を記載

  • 木村 雅秀=日経エレクトロニクス
  • 2011/05/31 23:06
  • 1/1ページ
 電子情報技術産業協会(JEITA)は2011年5月31日、2020年までの実装技術の方向性をまとめた「2011年度版日本実装技術ロードマップ」の報告会を開催した。同ロードマップは2年ごとに改定しているもので、今回は第7版となる(過去記事)。

おすすめ