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HOMEエレクトロニクス電子デバイス > ALD並みのステップ・カバレッジと拡散炉並みの膜質を両立,Novellusの酸化膜CVD技術

ALD並みのステップ・カバレッジと拡散炉並みの膜質を両立,Novellusの酸化膜CVD技術

  • 長廣 恭明=Tech-On!
  • 2010/08/20 19:40
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 米Novellus Systems, Inc.は,ALD(atomic layer deposition)並みのステップ・カバレッジ(段差被覆性)と縦型拡散炉並みの膜質を両立させた酸化膜形成技術「CFD(conformal film deposition)」を開発したことを発表した。同社のマルチチャンバ型CVD装置プラットフォーム「VECTOR」に搭載でき,32nm以降のトランジスタ形成工程(front end of line:FEOL)やダブル・パターニングに適用できるとしている。

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