台湾Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.（TSMC）が，7月2日に開催する「TSMC 2010 Japan Technology Symposium」のメディア向け事前説明会をその全日に開催，その中で同社のR&D担当副社長兼CTOのJack Sun氏と，TSMCジャパン代表取締役社長の小野寺誠氏が，技術開発やビジネスの状況などを説明した（Tech-On!関連記事1）。このうちSun氏が説明した技術開発の状況に関しては，同社が2010年2月24日に開催した「TSMC 2010 Executive Forum on Leading Edge Technology」の内容と大きな変更はなかった（Tech-On!関連記事2）。ただし，20nm向け露光技術に関しては「EUV（extreme ultraviolet）露光でもマルチ電子ビーム直描（MEBDW）でも良いから，コストとスループットを満たした技術が欲しい」とコメント，露光技術が現状に対して大きく進化することを強く期待していることをうかがわせた。
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