次世代の半導体製造に使われる露光装置を巡って,ニコンとオランダASML社の間の攻防が一層激しさを増して来た。最大の焦点は,ロジックLSI向けの露光装置であろう。より具体的にいうと,ニコンの“牙城”である米Intel Corp.の22nmや16nmのプロセス向けの露光装置の選択である。2010年2月末に米国サンノゼで開催された「SPIE Advanced Lithography 2010」や,その前後の発表の中で注目を集めた一つが,ASMLが発表したIntelの「Preferred Quality Supplier(PQS)award」の受賞である。ASMLにとって,初の受賞だという。
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