透明アモルファス酸化物半導体とFPD応用に関する国際会議，日米韓台の代表的研究者が一堂に
透明アモルファス酸化物半導体とそのディスプレイ応用に関する国際会議「International Workshop on Transparent Amorphous Oxide Semiconductors（TAOS 2010）」が，1月25〜26日に東京工業大学のすずかけ台キャンパスで開催される。シャープ，キヤノン，日立製作所，NEC，大日本印刷，凸版印刷，米Hewlett-Packard Co.（HP），韓国Samsung Electronics Co., Ltd.，韓国LG Display Co., Ltd.，台湾AU Optronics Corp.（AUO）など，日本・米国・韓国・台湾を代表する企業の一線級の研究者が招待講演を行う。
透明アモルファス酸化物半導体は，“次世代FPD”を駆動するTFTの材料として期待を集めている。Si TFTによる現行のパネルを高精細，高速化し，さらにフレキシブル・ディスプレイのような新しい応用を開く可能性を秘めているからだ。ただ，高い歩留まりで大量の製品を製造しなければならないFPDメーカーにとって，使い慣れた材料に代えて，新しい材料を採用することにはリスクがある。実用化に向けて検討すべき課題は多い。課題克服には，材料メーカーや装置メーカーの協力が必要であり，実用化に向けた仲間作りが不可欠だ。
こうした状況の中，今回の国際会議には第一線の研究者が一堂に会する。2004年にケタ違いの性能改善を実現し，この分野に光を当てた東京工業大学教授の細野秀雄氏も，「これほどの企業と研究者が勢ぞろいするのは初めて。透明アモルファス酸化物半導体の現状を知る絶好の機会」と言う。
国際会議の内容については，FPD最大手の韓国Samsung Electronics Co., Ltd.のSenior Adviser（Former Vice President）であるJun H. Souk氏による基調講演も決まっている。また，講演に加えて，第8世代のスパッタリング・ターゲットや，透明アモルファス酸化物半導体IGZO（In, Ga, Zn, O）のTFTで駆動する液晶パネルの展示も実施する予定。
