国内EDAベンダーTOOLのビューワ技術，米Luminescentが露光シミュレータに採用

2009/08/11 12:10

小島郁太郎＝編集委員

　国内EDA（electronic design automation）ツール・ベンダーのTOOLは，TOOLのマスク・レイアウト・ビューワ技術を組み込んだ露光シミュレータを，米Luminescent Technologies, Inc.が出荷開始したと発表した（ＴＯＯＬのニュース・リリース，Luminescentのニュース・リリース）。

　Luminescentは，露光シミュレータ関連の製品として「Inverse Explorer」と「Inverse Synthesizer」を提供している。その露光シミュレータのビューワの「LVIEW」に，TOOLのマスク・レイアウト・ビューワの技術を採り入れた。なお，TOOLは「LAVIS」という製品名でマスク・レイアウト・ビューワを開発・販売している。

　TOOLとLuminescentによれば，TOOLの技術を採り込んだLuminescentの露光シミュレータ製品は，台湾と韓国の大手SiファウンドリとDRAMメーカーに最初に納入されたという。Luminescentの製品は日本の半導体メーカーも導入しているが，それにTOOLの技術が入っているかは不明。

　ニュース・リリースには，LuminescentのLeo Pang氏（Sr. VP of Computational Lithography and Inspection Technologies）のコメントが紹介されている。「世界の半導体市場に認められ，実績のあるTOOLのレイアウト表示技術は，われわれの要求を充分に満たすものである」（同氏）。