「PV Foil」の寸法は125mm×125mm×20μm。手で容易に曲がる。
「PV Foil」の寸法は125mm×125mm×20μm。手で容易に曲がる。
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　米Silicon Genesis Corp.は2009年3月4日，20μm厚と非常に薄い単結晶Siのフレキシブル基板「PV Foil（太陽電池箔）」を，削りくずをほとんど出さずに製造する技術を開発したと発表した。同社は2008年7月に50μm厚のSiウエハーの製造技術を開発している（関連記事）。今回，厚さを20μmにまで薄くしたことから，「Siウエハーでもなく，薄膜技術でもない新しい形状の仕様」（同社）として，「箔」としたという。

　製造技術の名前は，50μm厚のSiウエハーの場合と同じ「PolyMax」。「（厚さが1～2μmの）薄膜技術には，Siの使用量が少ないという長所，単結晶Siウエハーには高効率という長所がある。20μm厚の箔型太陽電池は両者の長所を合わせ持つ」（同社）とする。