ニコンの出荷は2009年4Q，ダブル・パターニング対応の液浸露光装置

　ニコンは，ダブル・パターニング対応の液浸ArF露光装置「NSR-S620」を2009年第4四半期（10〜12月）に出荷する（リリース，Tech-On!関連記事1）。ハーフピッチで32nmの世代に対応する。

　ニコンによると，NSR-S620は，ハーフピッチで45nmの世代に対応する同社の液浸装置「NSR-S610C」などで培った液浸技術「ローカルフィルノズル」と「タンデムステージ」をさらに進化させ，高精度と高スループットを両立可能なプラットフォームに搭載することで，量産プロセスにおける要求に応えていくという（Tech-On!関連記事2）。

　なお，同社はダブル・パターニング対応装置を含む液浸ArF露光装置の生産能力を拡大する計画を，この8月に発表している（Tech-On!関連記事3）。

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