講演するK.R. Balaji氏 日経BPが撮影。スライドはで，今回のDFM処理の流れ。
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今回のDFM処理系を組み込んだ「DESIGNrev」の実行画面例 実行したいDFM処理はプルダウン・メニューで選べる。QUALCOMM のデータ。
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ダブル・ビア化のパラメータ設定画面例 設計者がこれまで使ってきたCadenceのツールに似た感じにしたという。QUALCOMM のデータ。
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米QUALCOMM Incorporatedは，米Mentor Graphics Corp.のLSIマスク・レイアウト検証ツール「Calibre」を配置配線後のDFM（design for manufacturability）処理にも適用した事例を発表した。この発表は，米カリファルニア州Santa Claraで11月5日と6日に開催のMentorのユーザー会議「USER2USER 2008」で行われた。
QUALCOMMはレイアウト設計を米Cadence Design Systems, Inc.のEDAツールで，設計ルール・チェック（DRC）をMentorのCalibreで行ってきた。DFM処理はさまざまなフェーズで行われているが，今回の対象は，配置配線終了後のDFM処理である。具体的には，ダブル・ビア化やビアの周辺金属の拡張，ダミー・メタル・フィルなどを行う。
これらの処理は，CadenceのEDAツールで実行してきた。しかし，GDS IIファイルを開くだけでかなりの時間がかかってしまっていたので，その改良策を模索していた。QUALCOMMが選んだのが，Calibreに含まれる（1）マスク・レイアウト・ビューワの「DESIGNrev」と，（2）DFM処理機能（ダブル・ビア化やビアの周辺金属の拡張，ダミー・メタル・フィルなど）である。
DESIGNrevはGDS-IIファイルの高速読み出し／書き込み，およびGUIのために使った。なお実際のマスク・レイアウトのDFM処理には，Calibre組み込まれているDFM処理コマンドを使うことにした。
