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IBM社と日立製作所,32nm世代以降の最先端プロセスの共同研究を2年間実施へ

2008/03/10 13:02
狩集 浩志=日経エレクトロニクス
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 米IBM Corp.と日立製作所は,半導体技術の革新を目的として2年間にわたって基礎的な共同研究を進めることで合意したと発表した。32nm世代以降の最先端プロセスに焦点を絞って共同研究を進める。

 技術者はIBM社と日立製作所,それに日立製作所の子会社で半導体製造装置を手掛ける日立ハイテクノロジーズから集め,IBM社の米国Yorktown HeightsにあるThomas J. Watson Research Centerと,米国AlbanyのCNSE(College of Nanoscale Science and Engineering)で共同研究を進める予定。

 これまで各社で個々に進めていた研究を2社共同とすることで,最先端プロセスの研究に掛かるコストを大幅に低減できるとしている。

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