【セミコン・プレビュー】KLA，45nm以降のひずみやhigh-k膜に対応する検査装置を発表
2007/12/04 23:31
「WaferSight2」。米KLA-Tencor Corp.のデータ。
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米KLA-Tencor Corp.は，45nm以降のLSIに対応する計測装置「Aleris 8500」および「WaferSight2」を発表した。
KLAが製品化した2機種は，競合メーカーが多いLSI前工程測定向けである。Aleris 8500は，45nm以降に本格化する2次元局所ひずみ，高誘電率（high-k）ゲート絶縁膜，複雑な積層構造などの膜厚や構造，ストレスの評価に対応する。150〜900nmと広い範囲の分光偏光解析技術を活用している。測定面積は45μm角であり，従来装置の50μm×80μm角から改善した。短波長化によって膜中の窒素（N）に対する感度が高まり，ONO構造の評価に威力を発揮するという。新規のアプリケーションである高分解能の2次元ストレス測定も興味深い。
WaferSight2は，KLAが買収した旧ADE部門の最初の製品である。1台でウエーハの平坦度，ウエーハ・エッジ，およびナノ・トポグラフィ（大きさ数十μm，高さ0.1〜1nm）をカバーする。
KLAは，2007年度（2006年8月〜2007年7月）に約3000億円と過去最高の売り上げを達成した。中でも日本は同社にとって最大の市場だった。その主な要因は，日本メーカーがマスクや材料分野に強いことにある。マスクやウエーハの検査分野で，KLAは80％近い市場シェアを持つ。
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