【セミコン・プレビュー】ウシオ電機，ArF波長をエキシマ・ランプで実現
2007/11/29 18:15
ArFエキシマ・ランプ
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ArFエキシマ・ランプを搭載した照射装置
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ウシオ電機は，波長が193nmの単色光を発するエキシマ・ランプを開発した。世界初の成果という。これにより，高価なレーザーを用いることなく，ArF液浸リソグラフィに対応するレジストや材料，開発を行なえるようになる。2008年9月に研究開発向けに販売を開始する。
今回のランプを搭載した照射装置はArFエキシマ・ランプを使用するため，レーザーのように煩雑なガス交換が不要になる。それに伴い，ガス配管や有毒ガス除外装置も不要となる。メンテナンスは定期的なランプの交換のみで，光軸調整の必要はない。初期コストは，半導体リソグラフィ向けArFレーザーの数分の一。使用する際は，ランプと灯具の組み合わせの選択により，さまざまな照射エリアに対応できる。照射装置は，サイズが430mm×200mm×150mm，重さが7kgと，持ち運びが可能なサイズとなっている。
なお，同社はこの製品を，2007年12月5〜7日に千葉県・幕張メッセで開催される「セミコン・ジャパン 2007」に出展する予定。
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