【セミコン・プレビュー】信号対雑音比を5倍に向上，堀場製作所のレチクル/マスク異物検査装置《訂正あり》
信号対雑音比（S/N比）を従来機の5倍に向上し，異物検査能力を高めたレチクル/マスク異物検査装置「PR-PD2HR」を堀場製作所が開発した。パターン加工後のレチクル/マスク上で，直径0.35μmの異物を検出できる。また，従来機ではペリクルを保持する枠から4mm以内の領域は検査できなかったが，S/N比の向上により，枠から1mmのところまで検査できるようになった。
今回の装置では，照明用の光ビームのスポット径を従来機より縮小することにより，測定面からの散乱光のS/N比を高め，異物の検出能力を向上させている。スループットは，150mm角のレチクル/マスクの100mm×100mmの領域をパターン面（表面），ガラス面（裏面），ペリクル面の3面それぞれ検査する場合，3枚/時である。
測定に使う照明の光源は，発光波長488nm，出力10mWのArガス・レーザーである。局所クリーン技術である「SMIF（Standard Mechanical Interface）」システムを含む各社のステッパ・ケースに対応できる。
同装置の寸法は1710mm×1280mm×1540mm。同社は同装置の受注を2007年12月から開始する。納期は受注から5カ月とする。価格は9800万円から。
なお，同社はこの製品を，2007年12月5〜7日に千葉県・幕張メッセで開催される「セミコン・ジャパン 2007」に出展する予定。
【訂正】記事初出時に「「SMIF（Standard Mechanical Interface）」システムを除く各社のステッパ・ケースに対応できる」と記述しましたが，「「SMIF（Standard Mechanical Interface）」システムを含む各社のステッパ・ケースに対応できる」の誤りでした。お詫びして訂正します。
