「広範囲のSiベースの材料へ」―― 東レ・ダウコーニングが描く成長戦略
東レ・ダウコーニングが，短中長期にわたり持続的な成長を遂げるための新たな事業戦略を発表した。2006年12月期の売上高は，前年比10％増の659億500万円，経常利益は16％増の100億円弱で，過去最高という。しかし，基礎的な材料による業績は，市場の飽和により年2〜3％程度のプラスにとどまる。主軸のシリコーンだけでなく無機Siベースの材料にもフィールドを拡げ，既存市場における新規用途開拓から新興市場への参戦まで，継続的な発展を図る。
同社は成長ビジョンを大きく3段階に分けている。一つ目は現在注力している分野で新規用途を掘り起こし1〜2年後の有力事業化を目指す短期的なもの，二つ目，三つ目は，4〜5年後，さらにその先の飛躍を目指し新たな市場の獲得を目指す中長期的なもの。同社が挙げたそれぞれの注力テーマは下表の通り。
短期的な注力テーマでは，米Air Products and Chemicals社やフランスAir Liquid社をパートナーとしたCVD材料事業が最も有望とした。すでに事業として立ち上がっており，90nm世代以降のロジック向けで堅調に伸びているという。東京応化工業と組んだ多層レジスト用のSi含有材料（関連記事）は，2008年から立ち上がってくると見込む。
中長期的な注力テーマでは，SiCウエハー事業が最も進捗している。米国ミシガン州ミッドランドのDow Corning Corp.本拠地で開発が進んでおり，2008年下期には売り上げが立つと見る。ソーラー・グレードSiは，太陽電池に的を絞り，LSIなどに向けるほどの高純度を追い求めない金属Si材料と説明する。独自の冶金技術で製造し，低コスト化を図った。ブラジルで生産する予定で，2007年末までに年産3000トンの体制を整える計画。光導波路では，200℃のはんだリフローに耐える材料を開発している。300G〜1Tバイトの大容量が期待されるホログラフィック・データ・ストレージの事業は，2006年に米Aprilis社から買収したもの。長期的テーマに挙げた2事業も，すでにユーザーによる評価を受ける段階にある。これら以外では，長期的テーマとして携帯電話機の雑音対策も，ビジネス・チャンスと捉えている。
