マスク・レイアウト・ビューワのTOOL，SEM測長装置の独社と協業
2007/04/11 21:40
LSIのマスク・レイアウト設計データのビューワ「LAVIS」を手がけるTOOLと，SEM測長装置を手がける独Vistec Semiconductor Systems GmbHは，両社の製品を統合できるようにしたと発表した（TOOLのニュース・リリース）。
具体的にはTOOLの「LAVIS」とVistecのフォト・マスク対応SEM式CD測長「LWM9000 SEM」を統合できるようにした。これで，測長対象となる設計データをLAVISで表示しながら，簡単なマウス操作で視覚的にレシピ（LWM9000 SEM用の測長指示ファイル）を作成することを可能になるという。
このレシピは直接LWM9000 SEMで読み込むことができるため，ユーザーはレシピの書式を気にせず，高品質な測長指示ファイルを短期間で作成することができるとする。両社によれば，両社共通のユーザーから「レシピ作成工数が手作業で作成する場合と比べて，1/10以下になった」との評価を得たという。
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