フィアモは,2006年12月6~8日に開催されたセミコンジャパン2006(幕張メッセ)で,リアルタイム性を保持しつつ,感度を大幅に向上させた金属不純物モニタリング装置を,2007年2月に製品化することを発表した。半導体プロセスにおける金属不純物分析には,現在,主にICP-MSやTXRFなどが用いられている。こうした分析装置は使用した薬液をサンプリングして確認する用途に用いられている。今回フィアモが発表したFIAMO MXは従来機種からの特長であるリアルタイム計測の利点を活かしつつ,硫酸や硝酸といった高濃度酸性溶液やアンモニア水などの高濃度アルカリ溶液中の金属不純物を50 ppt~100pptレベルで測定できるようになった。
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