リリース)。300mmウエーハを180枚/時で処理できる。解像度は280nm,開口数(NA)は0.62,露光領域は26mm×33mmである。2007年第2四半期に販売を開始する。"> リリース)。300mmウエーハを180枚/時で処理できる。解像度は280nm,開口数(NA)は0.62,露光領域は26mm×33mmである。2007年第2四半期に販売を開始する。"> リリース)。300mmウエーハを180枚/時で処理できる。解像度は280nm,開口数(NA)は0.62,露光領域は26mm×33mmである。2007年第2四半期に販売を開始する。">
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【セミコン・プレビュー】ニコン,スループットを1.5倍に高めた i線露光装置を開発

大下 淳一=日経マイクロデバイス
2006/11/20 17:44
1/1ページ
 ニコンは,スループットを従来比で54%高めた i 線露光装置「NSR-SF150」を開発した(リリース)。300mmウエーハを180枚/時で処理できる。解像度は280nm,開口数(NA)は0.62,露光領域は26mm×33mmである。2007年第2四半期に販売を開始する。

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