【FPD】東ソー，使用効率を70％に高められる円筒型ITOターゲットを開発

2006/10/19 11:20

木村雅秀＝横浜発

円筒型のITOターゲットを開発

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ITO代替を狙うAlドープZnOターゲット「ZAO」

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　東ソーは，使用効率を高められる円筒型のITOターゲットを開発し，「FPD International 2006」に出展した。ITOは希少元素のInが高騰していることから，使用効率の改善が強く求められている。

　通常の平面型ターゲットでは，スパッタ時にプラズマが当たる領域が限られるので，使用効率は30～40％と低いが，今回の円筒型ではターゲットを回転させながら使うため，使用効率を70％に改善できるという。

　また，ターゲットを回転させながら局所的にプラズマを当てるので，プラズマ自体のパワーを高めることができ，高スループット化が可能とする。アーク放電を引き起こす高抵抗パーティクルの発生も抑制できると考えられている。

　このような円筒型ターゲットは金属材料では既に一般化しているが，酸化膜であるITOでは少なかったという。これまでの円筒型ITOターゲットは，溶融したITOを噴射して形成する溶射法が多かったが，この方法では密度が80～90％と低かった。今回はITO粉末を円筒状に成型した後，焼結することによって，密度を99.7％に高めた。

　試作した円筒型ターゲットは長さ400mm，外径100mm，ターゲット厚さ5～20mmである。さらに大型化することも可能とする。開発した円筒型ターゲットは現在，装置メーカーで評価中とする。

　また，同社はITOに替わる透明材料としてAlをドープしたZnOターゲット「ZAO」の開発も進めている。ITOに比べて抵抗は高いものの，耐熱性や耐湿性を高めることによって，抵抗変化を抑制した。99％の高密度で形成する特許を日本，韓国，欧州で取得している。